عنوان اختراع: ایجاد پوشش نانوساختار Ti با استفاده از فرایند شیمیایی از فاز بخار به كمك پلاسما

خلاصه اختراع

در این اختراع، پوشش نانوساختار Ti با استفاده از فرایند رسوب گذاری شیمیایی از فاز بخار با بهره گیری از پلاسما (PACVD) بر روی قطعات ایجاد شد. برای ایجاد پوشش در این اختراع، علاوه برگازهای ورودی (هیدروژن و آرگون) از بخار تتراكلرید تیتانیم استفاده شد. در این فرایند بعد از ایجاد پلاسما انتظار می رود كه مواد اولیه موجود در محفظه تجزیه شده و یون های موردنظر بر روی كاتد (كه محل قرارگیری قطعه می باشد) قرار گیرند. انتظار می رود با گذشت زمان، ضخامت پوشش افزایش یابد. در این فرایند درصد چرخه كار بین 33 تا 80 درصد، ولتاژ اعمالی بین 500 تا 650 ولت، دمای لایه نشانی بین 450 تا 600 درجه سانتیگراد، زمان لایه نشانی بین 1 تا 10 ساعت، فركانس دستگاه بین 6 تا 12 كیلوهرتز، فشار محفظه بین 1 تا 6 میلی بار در نظر گرفته شد. پوشش نهایی بدست آمده دارای ساختار با اندازه دانه بین 10 تا 120 نانومتر و ضخامت آن بین 1 تا 10 میكرومتر می باشد.