عنوان اختراع: سنتز نانوساختار بیسموت اكسی كلرید بر روی اكسیدگرافن كاهش یافته (BOC-rGO) به روش هیبریدی امواج میكروجت-سالوترمال با عملكرد فتوكاتالیستی در ناحیه نور خورشید برای تخریب فلوركینولون ها

خلاصه اختراع

در اختراع حاضر نانوفتوكاتالیست های كامپوزیتی بیسموت اكسی كلرید غنی از بیسموت بر روی اكسیدگرافن كاهش یافته (BOC/rGO) با در نظر گرفتن مقادیر مختلفی از اكسیدگرافن كاهش یافته (rGO)، به روش هیبریدی امواج میكروجت-سالوترمال سنتز شدند. برای تعیین خصوصیات نانوفتوكاتالیست ها، اكسیدگرافن واكسیدگرافن كاهش یافته سنتز شده آنالیزهایXRD ، FESEM، PDS، TEM، Raman، BET-BJH، DRS و PL انجام شد. سپس عملكرد نانوفتوكاتالیست ها در فرآیند تخریب فتوكاتالیستی آنتی بیوتیك افلوكساسین از محلول آبی آلوده، تحت تابش نور شبیه سازی شده به نور خورشید، مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشان داد كه نانوفتوكاتالیست سنتز شده با 0.5% از اكسیدگرافن كاهش یافته ((BOC/rGO(0.5)، كه دارای ذرات كروی نانومتری و حفرات مزو است و متشكل از (BiOCl(60%)-Bi24O31Cl10(40% به صورت مخلوط فازی و با اتصال ناهمگون داخلی بوده و به صورت كامپوزیت با %0.5 rGO می باشد، حداكثر راندمان (%84.4) را طی min 120 تابش نور داشت. نتایج حاصل از آنالیز BET-BJH، حداكثر بودن مساحت سطح ویژه و حجم حفرات كل را برای نانوفتوكاتالیست مزبور نشان داد؛ همچنین با توجه به آنالیز PL كاهش نرخ بازتركیب شدن جفت های الكترون-حفره برای این نانوفتوكاتالیست تأیید شد. علاوه بر این، عملكرد فتوكاتالیستی (BOC/rGO(0.5% در تخریب سایرآنتی بیوتیك های فلوروكینولون مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشان داد كه این نانوفتوكاتالیست كامپوزیتی دارای عملكرد خوبی در تخریب افلوكساسین و لووفلوكساسین می باشد. همچنین نتایج تست پایداری نشان داد كه نانوفتوكاتالیست (BOC/rGO(0.5% از پایداری بسیار بالایی برخوردار است.